В России модернизировали электронный нанолитограф для рентгеновской оптики

Фото из открытых источников

Специалистами Физического института имени П. Н. Лебедева (ФИАН) создана установка для выпуска отечественных компонентов рентгеновской и дифракционной оптики. Базой для неё стал советский электронный нанолитограф, производство которого остановили после распада СССР. Об этом ТАСС рассказал на полях Открытой недели науки БРИКС+ руководитель Троицкого обособленного подразделения ФИАН, член-корреспондент РАН Андрей Наумов.

Наумов пояснил, что электронный нанолитограф ZBA был разработан в 1980-1990 годах консорциумом стран Совета экономической взаимопомощи (СЭВ). В странах содружества и на постсоветском пространстве функционировали несколько сотен подобных установок. Солидную долю всей позднесоветской и постсоветской электроники изготавливали с использованием этих машин, но после распада Советского Союза их перестали производить. Сейчас проведён реинжиниринг отдельных узлов установки и их модернизация с учетом современных технологий.

Российские ученые уже получают с помощью данной установки элементы спектрометров и компоненты, что применяются при выпуске дифракционных оптических элементов и фазовых решеток для систем машинного зрения и микроскопии.

Так, одним из последних решений стало изготовление специально рассчитанных дифракционных решеток скользящего падения с переменным периодом, что крайне актуально для развития рентгеновской оптики. Также получены качественные дифракционные решетки для спектрометров. Что помогло реализовать возможность печати на крупных пластинах, до размеров 150 на 150 мм.

Методика электронно-лучевой литографии строится на использовании пучка электронов для структурирования поверхности особого полимерного материала (резиста). Что позволяет изготавливать, например, уникальные наноструктуры для научных исследований и экономики.