Первый отечественный литограф для печати чипов может быть выпущен в 2030 году

Проблему производства своих чипов Россия сможет решить к 2030 году. Для этого нужно соответствующее решение и подготовка дорожной карты Институтом физики микроструктур РАН и Национальным центром физики.

Об этом рассказал Газете.ru заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики ИФМ РАН Николай Чхало. Ученый не сомневается, что нужный научный, человеческий и технологический потенциал у страны есть. При одобрении ведущими научными центрами страны соответствующей дорожной карты можно будет приступать к практическому воплощению амбициозного проекта.

Два года должно уйти на первый этап, поясняет ученый. Это время для создания критических технологий рентгеновского литографа. Когда оборудование будет готово, можно будет приступать к тестированию основных узлов и технологической цепочки. Даже за это короткое время реально провести эту работу, обещает эксперт.

Далее потребуется еще один двухгодичный этап. Он нужен для создания бета-машины, ориентированной на массовое производство.

У голландской компании FAML, которая признана в мире как разработчик самых современных литографов, на процесс интеграции ушло порядка шести лет. Российский аналог надеются запустить для серийного производства к 2030 году. Наши литографы будут штамповать чипы в 28 нм, но это для начала. Дальше в планах выпуск чипов 14 нм и 12 нм, то есть, ходовых, востребованных параметров.