Новая технология получения плазмы ускорит разработку литографов

Фото из открытых источников

Российским ученым удалось создать устойчивую плотную плазму, подходящую для получения экстремального ультрафиолетового излучения (ЭУФ), что открывает путь к ускоренному созданию литографов нового поколения для производства микроэлектроники. Об этом сообщили в пресс-службе Института ядерной физики СО РАН, пишет ТАСС. Основой для такого достижения послужила уникальная лазерная установка, способная создавать непрерывный терагерцевый лазерный разряд. На сегодняшний день это единственное в мире оборудование, обеспечивающее подобный режим генерации излучения.

Современная фотолитография, на которой основано производство микросхем, позволяет формировать нанометровые структуры на кремниевых подложках. Однако с уменьшением размеров элементов возрастает потребность в новых источниках излучения, способных обеспечить более высокое разрешение и точность. ЭУФ-излучение в диапазоне 13,5 нанометра считается наиболее перспективным для таких задач. Плазма, разработанная российскими физиками, может использоваться именно в качестве источника ЭУФ, что особенно важно для развития отечественной микроэлектронной промышленности.

Виталий Кубарев, сотрудник института, отметил, что команде удалось стабилизировать и ограничить объем плазмы, добившись квазистационарного состояния. Это стало возможным благодаря применению импульсно-периодического терагерцового излучения. Полученная плазма обладает необходимыми параметрами плотности и размеров для использования в литографических установках. В ближайших планах ученых — увеличить мощность плазмы в два-четыре раза за счет модернизации Новосибирского лазера на свободных электронах, работающего в ИЯФ СО РАН. Повышение мощности позволит расширить спектр применений новой технологии.

В качестве рабочего вещества предполагается использовать ксенон, хорошо зарекомендовавший себя как эффективный источник ЭУФ-излучения. Разработка направлена на дальнейшую миниатюризацию оборудования: создаваемые установки будут использовать генераторы СВЧ-диапазона, а излучение будет передаваться в виде узконаправленного пучка. Это создаст предпосылки для создания компактных и высокоэффективных источников ЭУФ, пригодных как для промышленных литографов, так и для перспективных научных разработок.

Институт ядерной физики имени Г. И. Будкера является одним из ведущих мировых исследовательских центров в области плазменной физики, физики ускорителей и технологий управляемого термоядерного синтеза. Его специалисты продолжают разрабатывать фундаментальные решения, важные как для научной, так и прикладной сферы.